商晶，副教授，2022年3月博士毕业于澳大利亚昆士兰科技大学，现就职于美高美集团4688am美高美集团4688am材料物理系。以第一/合作作者身份在J. Am. Chem. Soc.、J. Phys. Chem. Let.、Nanoscale Horiz.、ACS Appl. Mater. Interfaces、Adv. Energy Mater.、 Small Methods、 Nanoscale、J. Mater. Chem. A等本领域顶级期刊发表近40余篇SCI论文。主要研究方向为材料计算，包括二维新型铁电铁磁材料的性质计算模拟和预测，以及合金的力学性能和电子信息功能陶瓷-铁电陶瓷材料。
邮箱：shangjing@sust.edu.cn
欢迎具有材料-力学-物理背景和兴趣的同学报考。
教育履历：
2009年-2013年：长春理工大学，无机非金属材料(光学方向）,学士
2013年-2016年：西北工业大学，力学与土木建筑学院，硕士
2018年-2022年：昆士兰科技大学，机械学院，博士
工作履历：
2022年-今： 美高美集团4688am美高美集团4688am材料物理系
研究项目：
2023年：国家自然科学基金青年项目（国家级，主持）
2022年：美高美集团4688am校内科研启动基金（校级，主持）
代表作：
（1） J. Shang, S. Shen, L. Wang, Y. Ma, T. Liao, Y. Gu* and L Kou*. Stacking-Dependent Interlayer Ferroelectric Coupling and Moiré Domains in a Twisted AgBiP2Se6 Bilayer. J. Phys. Chem. Lett. 2022, 13, 2027−2032.
（2） J. Shang, C. Xia, C. Tang C. Li, Y. Ma, Y. Gu * and L. Kou*. Mechano-ferroelectric coupling: stabilization enhancement and polarization switching in bent AgBiP2Se6 monolayers. Nanoscale Horiz., 2021, 6, 971.
（3） J. Shang, X. Tang, L. Kou*. Two dimensional ferroelectrics: candidate for controllable physical and chemical applications. WIREs Comput Mol Sci. 2020, 8, e1496.
（4） J. Shang, X. Tang, Y. Gu, Arkady V. Krasheninnikov, Silvia Picozzi*, C. Chen*, L. Kou*. Robust magnetoelectric effect in the decorated Graphene/In2Se3 heterostructure. ACS Appl. Mater. Interfaces 2021, 13, 2, 3033-3039.
（5） J. Shang, C. Li, X. Tang, A. Du, T. Liao, Y. Gu, Y. Ma, C. Chen*, L Kou*. Multiferroic decorated Fe2O3 monolayer predicted from first principles. Nanoscale 2020, 12, 27, 14847-14852.
（6） J. Shang, X. Tang, X. Tan, A. Du, T. Liao, S. C. Smith, Y. Gu, C. Li, L. Kou*. Stacking- Dependent interlayer magnetic coupling 2D CrI3/CrGeTe3 nanostructures for spintronics. ACS Appl. Nano Mater. 2020, 3, 1282-1288
（7） J. Shang, Y. Ma, Y. Gu, L. Kou*. Two-dimensional boron nanosheets: synthesis, properties and applications. Phys. Chem. Chem. Phys. 2018, 20 (46), 28964-28978
（8） J. Shang, F. Yang, C. Li, N. Wei, X. Tan. Size effect on the plastic deformation of pre- void Ni/Ni3Al interface under uniaxial tension: A molecular dynamics simulation. Comput. Mater. Sci. 2018, 148, 200-206.
